Quels sont les composants de la résistance de filtre du sac de poussière ?

La résistance courante du sac de poussière se compose principalement de résistance structurelle et de résistance de filtration.

Parmi eux, la résistance structurelle△ P se rapporte à la résistance locale et à la résistance le long du processus provoqué par les soupapes d'admission et d'échappement et des tuyaux de distribution du collecteur de poussière, qui peut être calculé et déterminé avec l'aide de la formule de calcul spécifique dans le manuel approprié de conception, habituellement 200~500Pa. La présente partie de résistance est inévitable, mais elle peut être réduite autant que possible en adoptant la structure raisonnable et les caractéristiques aérodynamiques conçoivent, de sorte qu'elle ne dépasse pas 20%~30% de toute la résistance du collecteur de poussière.

Le déchargement de résistance de filtre se rapporte à la résistance locale provoquée par l'élément filtrant de collecteur de poussière lui-même, y compris la résistance du matériel propre de filtre et la résistance de la couche de la poussière. Il est affecté par beaucoup de facteurs tels que la structure matérielle de filtre, les caractéristiques de fumée, la charge de filtre, et les conditions de fonctionnement. et a l'incertitude aléatoire. La résistance de filtration explique la part principale de toute la résistance du collecteur de poussière.

La valeur de résistance du matériel de nettoyage de filtre le matériel de nettoyage de filtre n'est pas un vrai « élément filtrant » essentiellement, mais une annexe des couches primaires et secondaires de la poussière qui sont filtrées réellement. Cependant, la structure et les caractéristiques de résistance du matériel propre de filtre jouer une fonction clé dans l'établissement de la couche de la poussière et de l'interprétation globale de filtre. Dans le domaine du dépoussiérage industriel, la vitesse de filtre du filtre à manches est basse, l'écoulement du gaz dans le matériel de filtre est un écoulement laminaire visqueux, et la résistance OP (PA) du matériel propre de filtre est proportionnelle à la vitesse de filtre.